Размеры фланцев, о которых вы упомянули, включают два разных стандарта, которые обычно используются в вакуумных системах: ISO-KF (также известный как NW или Klein Flange) и Conflat (CFF или Copper Gasket Face).
ISO-KF NW-25 - размер фланца, указанный в стандарте ISO-KF. Его номинальный диаметр составляет 25 миллиметров (мм) или примерно 1 дюйм.Фланцы ISO-KF используют зажим и эластомерную герметичность O-кольца для создания вакуумно-тёсного соединенияЭтот тип фланца обычно используется для применения с низким и средним вакуумом.
С другой стороны, фланцы Conflat (CFF) используются для применения в условиях высокого вакуума.Напряженные фланцы оснащены механизмом уплотнения с ножом, где медная уплотнитель помещается между фланцами и затягивается, чтобы создать вакуумную уплотнитель.
Тот факт, что вы упомянули "из нержавеющей стали", указывает на то, что вы имеете в виду материал, используемый для фланцев.Нержавеющая сталь является распространенным выбором для вакуумных фланцев из-за своей высокой прочности и отличной коррозионной стойкости.
Итак, вкратце, заявление "Фланцевые размеры ISO-KF NW-25 к Conflat CFF 2.75 В нержавеющей стали" означает переходный элемент или адаптер, который позволяет подключить вакуумную систему с фланцем ISO-KF NW-25 к Conflat CFF 2Фланцы изготовлены из нержавеющей стали, что является подходящим материалом для вакуумных применений.
| Параметр | Описание |
|---|---|
| Тип | Внутренние фланцы сварки серии CF |
| Материал | Нержавеющая сталь (обычно 304 или 316) |
| Способ уплотнения | Металлическое кольцо печати |
| Диапазон давления | Высокий вакуум до сверхвысокого вакуума (обычно ≤ 10^-9 Торр) |
| Температурный диапазон | от -196°C до 450°C |
| Диаметр трубы | Настраиваемая по требованиям клиента |
| Способ сварки | TIG (Gas Tungsten Arc Welding) или Electron Beam Welding (Сварка электронными пучками) |
| Сварный материал | Сварные материалы, совместимые с трубными материалами |
| Качество сварки | Соответствует стандартам ASTM или спецификациям клиента |
| Применение | Ультравысокие вакуумные системы, лабораторное оборудование, полупроводниковая промышленность и т.д. |