Сопротивляющийся источник испарения используя шлюпку испарения вольфрама

1. Описание шлюпки вольфрама сопротивляющегося источника испарения для испарения:

Покрыто или испарено одно из разнообразий шлюпок вольфрама, и шлюпки вольфрама часто использованы в деле покрытия испарения. В деле покрытия вакуумного испарения, испаренные шлюпки вольфрама часто использованы как сопротивляющиеся источники испарения должные к их высокой точке плавления, низкому давлению насыщенного пара, и стабилизированным химическим характеристикам. В оборудовании для нанесения покрытия вакуума, шлюпки вольфрама типа испарения необходимый компонент, и качество покрытия зависит от шлюпки использовало. Точка плавления материала для покрытий не может быть выше чем точка плавления шлюпки вольфрама когда тип шлюпка испарения вольфрама испаряет его; в противном случае, никакой путь продолжать.

2. тип шлюпки вольфрама источника испарения испарения сопротивляющейся:

3. производственный процесс испарения для сопротивляющегося источника испарения, шлюпки вольфрама:

Процесс испарения включает испарить или сублимировать вещество которое будет преобразовано в фильм в вакууме, причиняя его осадить на поверхности субстрата или workpiece. Пар-депозированная шлюпка вольфрама подготовленные некоторым образом сродные к проштемпелеванной шлюпке вольфрама, за исключением того, что бывшие особенности испаряются отверстия на крышке шлюпки.

4. Применение шлюпки вольфрама используемой как сопротивляющийся источник испарения для испарения:

В источниках испарения сопротивления, шлюпки вольфрама типа испарения также часто использованы. Шлюпка вольфрама первоначально помещена между 2 электродами, материалы после этого помещены в своей середине, и в конце концов, электроды постепенно подпитаны. Жара произведенная высокой шлюпкой вольфрама точки плавления будет возвращена к материалу для покрытий течением. Покрывая вещество возгоняет или испарится когда температура шлюпки вольфрама превысит точку плавления покрытия.

Вы хотите знать больше о наших продуктах?