Плазма 1200℃ увеличила печь LPCVD с вакуумным насосом
 
Умное введение LPCVD:
Система PECVD конструирована для того чтобы уменьшить температуру реакции традиционного CVD. Она установила оборудование индукции RF перед традиционным CVD для того чтобы ионизировать реагировать газ, поэтому плазма произведена. Плазма высокорадиоактивная реакция ускоренные ход должные к высокорадиоактивному плазмы. Так, эта система вызвана PECVD.
Эта модель новое изделие, она синтезировала преимущества большинств систем трубки PECVD, и добавила подогревая зону во фронте системы PECVD. Тесты показали что скорость низложения более быстра, качество фильма лучшие, отверстия, и не треснут. Система управления AISO полностью автоматическая умная независимо конструирована нашей компанией, более удобно работать и своя функция более сильна.
Широкий ряд применения: металлопленочный, керамический фильм, составной фильм, непрерывный рост различных фильмов. Легкий для увеличения функции, смогите расширить чистку плазмы вытравите и другие функции
 
 
Основная особенность:

• Высокий тариф низложения фильма: Технология зарева RF, значительно увеличивая тариф низложения фильма, тариф низложения может достигнуть 10Å/s
   
• Высокое единообразие зоны: Предварительная многопунктовая технология RF питаясь, особенное распределение пути газа, и технология топления, etc., делают достигаемость 8% индекса единообразия фильма
   
• Высокая последовательность: используя предварительную идею проекта индустрии полупроводника, отступление между субстратами одного низложения меньше чем 2%
   
• Высокая отростчатая стабильность: Сильно стабилизированное оборудование обеспечивает непрерывный и стабилизированный процесс

 
Стандартные запасные части:

• Затыкать ПК трубки 4
• ПК трубки печи 1
• ПК вакуумного насоса 1
• Наборы фланца 2 запечатывания вакуума
• ПК датчика вакуума 1
• Доставка & вакуумный насос газа
• Оборудование плазмы RF

 
Опционные запасные части:
 

• Фланец быстрого выпуска, трехсторонний фланец
• 7 scree касания дюйма HD

 
 
 
Лаборатория PECVD разделила стандартные технические условия печи трубки:
 

 
Почему лаборатория PECVD брата разделила печь трубки?

• Изготовитель с опытом лет 10+
• Самое лучшее качество
• Подгонянный дизайн
• Лицо имеющее трудовые стажи
• Большая фабрика

Клиенты от больше чем 30 стран выбирают нас

• Удовлетворяемые клиенты предлагают доказательство нашего обязательства к превосходным дизайну, качеству и эффективности затрат.

Самое лучшее обслуживание, быстрая реакция

• Свободный дизайн для особенной печи
• Свободная служба технической поддержки для продолжительности жизни
• Свободный типовой тест

 
Если вы заинтересованы в нашей печи 1200℃ увеличенной плазмой LPCVD с вакуумным насосом, то контакт мы теперь для того чтобы получить цитату!