Завод по нанесению покрытий Cooper Magnetron Sputtering на светодиодном плоском потолочном светильнике двойного цвета 3W + 3W

Процесс DPC — прямое нанесение меди — это передовая технология покрытия, применяемая в светодиодной, полупроводниковой и электронной промышленности.Одним из типичных применений является керамическая излучающая подложка.

Осаждение проводящей пленки меди на подложках Al2O3, AlN, Si, Glass с помощью технологии вакуумного напыления PVD по сравнению с традиционными методами производства: DBC LTCC HTCC, особенности:

1. Гораздо более низкая стоимость производства.

2. Превосходное управление температурой и эффективность теплопередачи.

3. Точное выравнивание и дизайн рисунка,

4. Высокая плотность цепи

5. Хорошая адгезия и способность к пайке.

Королевская технологическая команда помогла нашему клиенту успешно разработать процесс DPC с технологией напыления PVD.

Благодаря своим передовым характеристикам подложки DPC широко используются в различных приложениях:

Светодиод высокой яркости для увеличения срока службы из-за его высокоготепловое излучениепроизводительность, полупроводниковое оборудование, микроволновая беспроводная связь, военная электроника, различные сенсорные подложки, аэрокосмическая промышленность, железнодорожный транспорт, электроэнергетика и т. д.

Оборудование RTAC1215-SP разработано исключительно для процесса DPC, при котором на подложки наносится медный слой.В этом оборудовании используется принцип физического осаждения из паровой фазы методом PVD с методами многодугового ионного покрытия и магнетронного напыления для получения идеальной пленки с высокой плотностью, высокой стойкостью к истиранию, высокой твердостью и прочным связыванием в условиях высокого вакуума.Это решающий шаг для остальных процессов DPC.

Основные характеристики машины для нанесения покрытия напылением меди

1. Оснащен 8 направляющими дуговыми катодами и катодами для распыления постоянного тока, катодами для распыления MF, блоком источника ионов.

2. Доступно многослойное и совместное покрытие.

3. Источник ионов для предварительной обработки плазменной очистки и осаждения с помощью ионного луча для повышения адгезии пленки.

4. Блок нагрева керамических/Al2O3/AlN подложек;

5. Система вращения и вращения подложки для одностороннего и двустороннего покрытия.

Технические характеристики машины для нанесения покрытия медным напылением

Производительность

1. Предельное вакуумметрическое давление: лучше 5,0×10^-6Торр.

2. Рабочее давление вакуума: 1,0×10^-4Торр.

3. Время откачки: от 1 атм до 1,0×10^-4Torr≤ 3 минуты (комнатная температура, сухая, чистая и пустая камера)

4. Металлизирующий материал (напыление + дуговое напыление): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr и т.д.

5. Операционная модель: полностью автоматический/полуавтоматический/ручной

Структура

Вакуумная лакировальная машина содержит ключевую завершенную систему, указанную ниже:

1. Вакуумная камера

2. Вакуумная насосная система для промывки (блок форвакуумного насоса)

3. Высоковакуумная насосная система (молекулярный насос с магнитной подвеской)

4. Электрическая система управления и эксплуатации

5. Система вспомогательных помещений (подсистема)

6. Система осаждения

Подложки Al2O3, AlN с образцами меднения

Пожалуйста, свяжитесь с нами для получения дополнительных спецификаций, Royal Technology имеет честь предоставить вам комплексные решения для покрытий.

Машина для прямого нанесения медных покрытий - магнитоэлектрический ...