Принцип деятельности: Брызгайте низложение физический метод низложения пара (PVD) низложения тонкого фильма путем брызгать. Это включает выкинуть материал от «цели» которая источник на «субстрат» как кремниевая пластина. Resputtering re-излучение депозированного материала во время процесса низложения бомбардировкой иона или атома. Брызганные атомы выкинутые от цели имеют широкое распределение энергии, типично до десяток eV (100 000 k). Брызганные ионы (типично только ионизирована небольшая часть выброшенных частиц — заказанн 1 процента) смогите баллистически лететь от цели в прямых линиях и ударе энергично на субстратах или камере вакуума (причиняя resputtering). Альтернативно, на более высоких давлениях газа, ионы вступают в противоречия с атомами газа которые действуют как модератор и движение отражающе, достигая субстраты или стенку камеры вакуума и конденсируя после проходить метод случайного блуждания. Весь ряд от с высокой энергией баллистического удара к низкоэнергическому термализованному движению доступен путем изменение давления газа предпосылки. Газ брызгать часто инертный газ как аргон. Для эффективной передачи момента, атомный вес газа брызгать должен быть близко к атомному весу цели, поэтому для брызгать светлый неон элементов предпочтителен, пока для тяжелых элементов использованы криптон или ксенон. Реактивные газы можно также использовать для того чтобы брызгать смеси. Смесь можно сформировать на поверхности цели, летной или на субстрате в зависимости от параметров процесса. Наличие много параметров которые контролируют для того чтобы брызгать низложение для того чтобы сделать им сложный процесс, но также позволить специалистам большой объем контроля над ростом и микроструктурой фильма.

Особенность: легкий для того чтобы контролировать толщину и цвет фильма, штраф и ровную частицу фильма

Применение: продукты 3C, дозор, ювелирные изделия, etc.

Зеленый процесс: отсутствие вредного газа, отсутствие сточных водов, отсутствие отходов.