Магнетронное напыление в индустрии магнитной записи

Приложения

Принцип работы

Магнетронное распыление заключается в формировании ортогонального ЭМ поля над поверхностью катодной мишени.После среднего

электроныгенерируемые распылением, ускоряются до электронов высокой энергии в области катодного падения, они

не летать напрямуюк аноду, но колеблются взад и вперед, что похоже на циклоиду под действием ортогонального

ЭМ поле.Высокая энергияэлектроны постоянно сталкиваются с молекулами газа и передают последним энергию, ионизируя их

в низкоэнергетические электроны.Эти низкоэнергетические электроны в конечном итоге дрейфуют вдоль магнитной силовой линии к вспомогательной

анод рядом с катодом изатем поглощаются, избегая сильной бомбардировки высокоэнергетическими электронами полярных

плита и устранение поврежденийк полярной пластине, вызванное бомбардировочным нагревом и облучением электронами в

вторичное распыление, отражающее«низкотемпературная» характеристика полярной пластины при магнетронном напылении.

Сложные движения электронов увеличиваютскорость ионизации и реализовать высокоскоростное распыление благодаря наличию

магнитного поля.

Функции

Образец покрытия

Шаги процесса

→ Поместите подложку для покрытия в вакуумную камеру;
→ Вакуумировать вакуумную камеру при высокой и низкой температуре и синхронно вращать подложку;
→ Стартовое покрытие: подложка контактирует с прекурсором последовательно и без одновременной реакции;
→ Продувайте его газообразным азотом высокой чистоты после каждой реакции;
→ Прекратите вращение подложки после того, как толщина пленки станет стандартной, а операция продувки и охлаждения завершится.

завершите, затем извлеките подложку после того, как будут соблюдены условия отключения вакуума.

Наши преимущества

Мы производитель.

Зрелый процесс.

Ответ в течение 24 рабочих часов.

Наша сертификация ISO

Части наших патентов

Части наших наград и квалификаций НИОКР