Атомно-слоевое осаждение в сенсорной промышленности


Приложения

Принцип работы
Базовый цикл осаждения атомарного слоя состоит из четырех этапов:
1. Первый прекурсор будет направляться к поверхности подложки, и процесс хемосорбции будет автоматически
прекращатькогда поверхность насыщена;
2. Инертные газы Ar или N2 и побочные продукты смывают избыток первого прекурсора;
3. Второй прекурсор вводят и вступает в реакцию с первым прекурсором, хемосорбированным на поверхности подложки, с образованием
сформироватьжелаемый фильм.Реакционный процесс останавливают до тех пор, пока не вступит в реакцию первый прекурсор, адсорбированный на
поверхность подложкивыполнен.Вводят второй прекурсор, а избыток прекурсора смывают.
прочь;
4. Инертные газы, такие как Ar или N2 и побочные продукты.
Этот реакционный процесс называется циклом: впрыск и промывка первого прекурсора, впрыск и промывка
второйпредшественник.Время, необходимое для цикла, равно сумме времени введения первого и второго прекурсоров.
плюс двавремя промывки.Следовательно, общее время реакции равно количеству циклов, умноженному на время цикла.

Функции

Образцы покрытия

Шаги процесса
→ Поместите подложку для покрытия в вакуумную камеру;
→ Вакуумировать вакуумную камеру при высокой и низкой температуре и синхронно вращать подложку;
→ Стартовое покрытие: подложка контактирует с прекурсором последовательно и без одновременной реакции;
→ Продувайте его газообразным азотом высокой чистоты после каждой реакции;
→ Прекратите вращение подложки после того, как толщина пленки станет стандартной, и операция очистки и охлаждения iс
завершите, затем извлеките подложку после того, как будут соблюдены условия отключения вакуума.

Наши преимущества
Мы производитель.
Зрелый процесс.
Ответ в течение 24 рабочих часов.

Наша сертификация ISO

Части наших патентов

Части наших наград и квалификаций в области НИОКР